2024年7月23日
2024年4月28日
2024年3月19日
2024年1月11日
全自动离子溅射仪作为一种先进的薄膜制备设备,采用磁控型电极,可以最大限度地减轻对样品的损坏。它的主要特点包括:液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小以及样品表面无温升,适用于温度敏感性样品。 全自动离子溅射仪在不同行业的应用: 1.在光电行业中,离子溅射仪主要用于制备光学薄膜。光学薄膜是光电子器件的重要
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