2024年1月11日
全自动离子溅射仪作为一种先进的薄膜制备设备,采用磁控型电极,可以最大限度地减轻对样品的损坏。它的主要特点包括:液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小以及样品表面无温升,适用于温度敏感性样品。 全自动离子溅射仪在不同行业的应用: 1.在光电行业中,离子溅射仪主要用于制备光学薄膜。光学薄膜是光电子器件的重要
2024年1月8日
热蒸发镀碳仪是一种先进的表面处理技术,它通过将固态碳源加热至高温状态,使其蒸发并在待镀物体表面形成一层均匀的碳膜。这种技术具有操作简便、成本低、效率高等优点,因此在众多领域得到了广泛的应用。设备采用的全闭环真空设计不仅保证了仪器的安全稳定运行,而且通过配备全量程皮拉尼真空计等多个传感器,实现了实时监控运行状态。这意味着无论是在实验过程中,还是在长期运行中
2024年1月2日
手套箱专用离子溅射仪是一种利用离子溅射技术来清洁和处理的设备。该设备通过高能离子束对表面进行轰击,使得表面的污染物和氧化物被溅射掉,从而达到清洁表面的目的。同时,离子溅射技术还可以在表面沉积薄膜,提高表面的耐磨、耐腐蚀等性能。 手套箱专用离子溅射仪的应用优势介绍: 1.高度集成:离子溅射仪将离子源、溅射靶材、样品台等关键部件集成在一个紧凑的箱体中,使
2023年12月29日
作为一种先进的物理气相沉积技术,射频磁控溅射镀膜仪在各种应用中都展现出其独特的优势和价值。在当今的高科技时代,表面处理和薄膜技术已经成为众多领域的关键技术之一,而镀膜仪正是这一领域的核心设备。 一、射频磁控溅射镀膜仪的原理 利用磁场控制下的高速粒子撞击基片表面,通过物理过程实现薄膜的沉积。在溅射过程中,高能粒子通过电场加速后撞击靶材,使靶材表面的原子