GVC-1000全自动离子溅射仪

　　GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作，同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统，可以更换不同的金属靶材（金，铂，银，铱，铬，铜等），实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备，轻松助您取得更好地材料研究样品， 获得高质量的显微镜观测效果。

　　GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)性能参数
　　1、离子溅射仪工作原理：磁控溅射
　　2、可选靶材：金，铂，金钯合金，铅，银，铜，铬，锑等
　　3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃
　　4、全自动操作，简单易用，非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等
　　（1）溅射电流自动调整——设定溅射电流后，系统自动调节真空度，从而达到设定的溅射电流，调整时间＜5s，波动范围＜±5%；
　　（2）无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。
　　（3）溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可；
　　（4）参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长，系统自动计算叠加，无需终止溅射过程；
　　（5）工作完成自动放气；
　　（6）样品台高度调节1秒完成；
　　（7）溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观。
　　（8）极限真空：小于1Pa
　　5、软硬件互锁，防误操作，安全可靠
　　（1）真空度高于100Pa，启动真空保护，无法溅射；
　　（2）溅射电流高于50mA，停止溅射过程；
　　（3）真空泵工作时，系统无法进行放气操作；
　　6、镀层均匀，导电性良好。